三、公司设备特点
1、设备整体尺寸：2000mm*18000mm*1600mm（宽*深*高）
2、真空室尺寸：直径700、900、1100mm
3、平行板电极尺寸：直径600、800、1000mm
4、电极冷却及调节：水冷，可调节
5、真空系统：粗抽泵+分子泵机组
6、极限真空度：1*10-6mabr。
7、溅射电源：ae 射频直流电源3kw-5kw-10kw
8、工艺匹配：全自动匹配
9、气体控制：mks 质量流量控制器 4路
10、真空检测：mks 薄膜压力规
11、加热系统：石英管加热或热电阻加热5kw-8kw-12kw
12、控制方式：全自动控制系统
四、pecvd设备的应用
1、沉积dlc膜层：用与机械、电子、医疗等领域
2、沉积氮化硅：半导体行业、微电子行业
3、沉积tin膜层：以及tic等硬质膜层，比离子镀更光亮，更美观
4、纳米炭管：cnts是pecvd技术的一个新的应用
5、太阳能薄膜电池：非晶硅太阳能电池的制备

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深圳市昊光机电科技应用有限公司
李小姐
13316854872
：深圳市龙岗区坪地镇高桥产业区麻沙旭达工业区1栋